金属含量分析仪

金属含量分析仪

仪器介绍：

手持式仪器简介：

X射线荧光光谱分析仪，有效检的应对有害元素检测、合金分析、矿石分析、环境分析的产品，目前正服务于伊朗核查和欧美各大海关等重要部门。

合金分析仪元素分析范围

可分析从从12号元素Mg到94号元素PU之间的所有合金。

合金分析仪用途及应用

用于现场，无损，快速，准确分析检测合金元素和合号的识别。

合金材料鉴别（PMI）

来料检验；库存材料管理；安装材料复检

由于在石化建设，金属冶炼，压力容器，电力电站，石油化工，精细化工，制药，航空航天等行业中，混料或使用不合格的材料会产生严重的安全?肌?

便携式XRF 合金分析仪用以确保生产设备与管道中所使用的合金零部件与设计要求的规格**。

便携式XRF 合金分析仪携带方便，使用简单，分析速度快，精度，其结果直接显示合号、金属成分的百分比含量，从而使便携式XRF 合金分析仪成为合金材料鉴别的*di一供应商。

金属废料回收

废旧金属的回收、再利用需要Innov-X 便携式XRF 合金分析仪，确保对大量繁杂多样的合金种类及材料品质，进行现场快速准确的分析检测。

质量保证与质量控制（QA/QC）

在金属制造行业中，材料、半成品、成品的质量保证与质量控制（QA/QC）是*的，混料或使用不合格材料必给企业带来损失。便携式XRF 合金分析仪被广泛用于从小型金属材料加工厂到大型的飞机制造商的各种制造业。已成为质量体系中材料确认、半成品检验、成品复检的仪器.

合金分析仪技术规格

直读光谱仪简介：

这款CMOS光谱仪，既包含了CCD光谱仪的全谱特性，又具备PMT光谱仪对非金属元素的极低检出限，整机设计合理，操作简单易学，具有数据，长期稳定性好等优点。

应用领域

冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。

可检测基体

铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。

主要技术参数

v光学系统：帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统

v波长范围：140~680nm

v光栅焦距：401mm

v探 测 器：性能CMOS阵列/CCD阵列

v光源类型：数字光源，能预燃技术（HEPS）

v放电频率：100-1000Hz

v放电电流：大500A

v工作电源：AC220V 50/60Hz 1000W

v检测时间：依据样品类型而定，一般20S左右

主要特点

v性能光学系统

采用精度的CMOS元件可测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量；测定结果，重复性及长期稳定性hao。

v自动光路校准

自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；

仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。

v插拔式透镜设计

真空光学系统采用*的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。

v真空防返油技术

多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空*隔离；中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。

v开放式激发台

开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；配合使用小样品夹具，线材低分析可达到3mm。

v喷射电极技术

采用的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提激发精度；配上du特氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。

v以太数据传输

计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机*外置，方便升级和更换；可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。

v预制工作曲线

备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产；根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择优测试条件。

v分析速度快

分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析；针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用短时间达到优的分析效果。

v多基体分析

光路设计采用罗兰圆结构，检测器上下交替排列，保证接收全部的谱线，不增加硬件设施，即可实现多基体分析；便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素（无硬件成本）。

v软件中英文系统

仪器软件操作简单，*兼容于Windows7/8/10系统。

金属含量分析仪