金属含量检测仪器

我公司销售产品包括X射线荧光光谱仪（含能量色散和波长色散型）（XRF）、电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP）、原子荧光光谱仪（AFS）、原子吸收分光光度计（AAS）、光电直读光谱仪（OES）、气相色谱仪（GC）、液相色谱仪（LC）、能谱仪（EDS）、频红外碳硫分析仪（CS Analyzer）、矿浆载流在线采样仪（OSA）等。产品主要应用领域有电子电器、五金塑胶、珠宝首饰（贵金属及镀层检测等）、玩具安全（EN71-3等）,F963中规定的有害物质：铅Pb、砷Ａs、锑Sb、钡Ｂa、镉Cd、铬Cr、Ｈg、硒Se以及氯等卤族元素、建材（水泥、玻璃、陶瓷等）、合金（铜合金、铝合金、镁合金等）、冶金（钢铁、稀土、钼精矿、其它黑色及有色金属等）、地质采矿（各种矿石品位检测设备）、塑料（无卤测试等）、石油化工、岭土、煤炭、食品、空气、水质、土壤、、商品检验、质量检验、人体微量元素检验等等。总之销售的仪器设备应用于元素分析，化合物测试，电镀镀层厚度检测。

检测钢铁元素成分含量（含各种合金，不锈钢等），简单方便的是X荧光光谱仪，精度更高稳定性更好的是实验室使用的专业测试钢材成分设备的是OES光电直读光谱仪，介绍如下：

金属含量检测仪器

仪器介绍：

手持式仪器简介：

合金分析仪*性能

.超的检测精度度。

.超的稳定性，超的重复性。

.优异的线性相关性。

.采用了*重新设计的射线管、无压电源线、无 RF 噪音、更好的X射线屏蔽。

.结构更精密，缩短了射线管、探测器与被测样品之间的距离，对于某些应用信号提了~40%.

.新的滤波轮更轻、更薄，在位置上更加接近被测样品，具有8 个滤波器，可适应的配置，不同的元素采用不同的滤波器，产生好的分析效果。

.可测试Mg;Al;Si;P;S等轻质元素。

.内置的气压计可以纠正气压，气压计压力感应, 可根据不同的压力调整，从而是检测值更加准确，仪器预设海平面，客户在不同的海拔度测试，无需再次校准。

.内置的加速器可探测运动和震动，使仪器不用时待机，拿起时工作。

.智能接驳座可对额外电池充电、仪器内置电池同时充电并显示充电进度，接驳座能连接电脑交换数据，可让仪器即时标准化，仪器随时待命状态。

.仪器即使在开机状态下也可更换电池而并不需要关机，在系统运作中拔掉电池，有超过30秒的时间可以插入一个新电池。

.仪器开机并不需要标准化，可以直接测试，标准化仅仅是可选项。

.仪器外壳采用铝合金、塑胶设计，坚固耐用，手柄软胶设计，手感好,更适合长时间使用。

.仪器具有很好的平衡性，在测试时能立于工作台上，不需要用手扶持，一键式按钮设计，即使长时间操作也无疲劳感。

.工业级可触摸的显示屏与主机一体化密封设计，可承受野外恶劣的工作环境。密封的仪器可在雨天、尘土飞扬的矿山环境中长时间正常工作。

合金分析仪用途及应用

用于现场，无损，快速，准确分析检测合金元素和合号的识别。

合金材料鉴别（PMI）

来料检验；库存材料管理；安装材料复检

由于在石化建设，金属冶炼，压力容器，电力电站，石油化工，精细化工，制药，航空航天等行业中，混料或使用不合格的材料会产生严重的安全?肌?

金属废料回收

废旧金属的回收、再利用需要Innov-X 便携式XRF 合金分析仪，确保对大量繁杂多样的合金种类及材料品质，进行现场快速准确的分析检测。

质量保证与质量控制（QA/QC）

在金属制造行业中，材料、半成品、成品的质量保证与质量控制（QA/QC）是*的，混料或使用不合格材料必给企业带来损失。便携式XRF 合金分析仪被广泛用于从小型金属材料加工厂到大型的飞机制造商的各种制造业。已成为质量体系中材料确认、半成品检验、成品复检的仪器.

合金分析仪技术规格

直读光谱仪简介：

应用领域

冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。

可检测基体

铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。

主要技术参数

v光学系统：帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统

v波长范围：140~680nm

v光栅焦距：401mm

v探 测 器：性能CMOS阵列/CCD阵列

v光源类型：数字光源，能预燃技术（HEPS）

v放电频率：100-1000Hz

v放电电流：大500A

v工作电源：AC220V 50/60Hz 1000W

v检测时间：依据样品类型而定，一般20S左右

v电极类型：钨材喷射电极

v分析间隙：4mm

v其他功能：真空，温度，软件自动控制；压力，通讯监测

主要特点

v性能光学系统

采用精度的CMOS元件可测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量；测定结果，重复性及长期稳定hao。

v自动光路校准

仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。

v插拔式透镜设计

真空光学系统采用*的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。

v真空防返油技术

v开放式激发台

开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；配合使用小样品夹具，线材低分析可达到3mm。

v喷射电极技术

采用的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提激发精度；配上du特氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。

v集成气路模块

气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。

v数字化激发光源

v速数据采集

仪器采用性能CMOS检测元件，具有每块CMOS单独超速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。

v以太数据传输

v预制工作曲线

备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产；根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择优测试条件。

v分析速度快

分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析；针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用短时间达到优的分析效果。

v多基体分析

v软件中英文系统

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